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氩离子枪及配套模块竞价公告
招标详情
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相关单位：
***********公司企业信息
| 项目名称 | 氩离子枪及配套模块 | 项目编号 | **** |
| 公告发布日期 | 2026/11/11 15:24 | 公告截止日期 | 2026/11/16 15:24 |
| 采购单位 | **** | 付款条款 | 合同签订后，甲方向乙方预付合同金额的60%，设备交付到现场，安装、调试验收合格后，甲方向乙方支付合同金额的40%。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 是否需要踏勘 | 否 | ||
| 踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||
| 踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||
| 采购预算 | ￥280,000.00 | ||
| 送货/施工/服务期限 | 自合同生效之日起90个工作日内 | ||
| 送货/施工/服务地址 | ****仪器科学大楼 | ||
| 履约保证金 | 1、本项目要求成交供应商提交履约保证金。 2、成交供应商收到成交通知书后，签订合同前向采购人提交合同额 5 %的履约保证金（不超过5%）。 3、提交履约保证金按照采购人的要求以支票、汇票、本票或者金融机构、担保机构出具的保函等非现金形式提交。 4、成交供应商合同主要义务履行完毕，成交供应商缴纳的履约保证金自项目验收合格之日起 30 个工作日内采购人无息退还。 | ||
| 项目概况 | 本项目拟购置一套超高真空兼容氩离子溅射源（氩离子枪）及其配套电源、聚焦与偏转模块、气体馈入、信号监测单元。整套装置安装于制备腔标准 CF 法兰，与高纯氩气路对接，在合适氩分压下产生可控氩离子束，轰击样品表面，实现原位清洗、可控刻蚀与表面修饰。源体全部采用 UHV 低放气材料，支持烘烤除气；配备独立高压/灯丝电源、聚焦透镜、束流监测、偏转扫描模块，离子能量、束流连续可调，束斑均匀可控。可配合变温样品操纵台倾斜旋转样品，实现多角度均匀溅射；工作时差分约束，尽量减小对腔体本底真空冲击，降低对 STM 测量端的干扰。整套模块低磁、低电磁噪声，不影响后续隧道电流采集与谱学测试。 | ||
采购清单
1
| 采购内容 | 是否进口 | 计量单位 | 采购数量 | 售后服务及资质要求 | |
| 氩离子枪及配套模块 | 否 | 套 | 1 | 1、提供本项目售后服务总负责人的姓名、职务、详细的地址和联系方式。 2、具备稳定的技术支持团队，具备开展项目实施和技术支持，现场技术支援的能力，提供技术团队人员配置情况的清单。 3、提供售后保障措施。(故障应急响应速度、售后服务体系，售后服务响应机制。) （1）质保期(验收合格之日起计算)1年内免费保修(人为因素除外)，即质保期内对所有货物进行免费无偿维护服务，如果出现非人为因素的质量问题，免费予以维护。 （2）服务响应时间,提供7X24技术支持，在接到客户要求维护的通知后，由专业人员12小时内响应，12小时内提出具体解决方案，48小时内专业技术人员上门现场解决，使设备尽快恢复正常。 （3）在设备使用中不管质保期内还是质保期外，及时更新操作系统和安全补工的安装或升级。 （4）设备超过质保期后，如出现故障，需要更换零部件的只收取成本。 4、培训要求:(1)提供不少于1个工作日的系统培训，包括操作使用、注意事项和相关理论知识，结构介绍、日常维护等，要求培训形式灵活，达到用户基本掌握设备和软件的使用方法为标准。 | |
| 参考品牌及型号 | 不限定品牌型号 | ||||
| 技术参数要求 | 1.真空兼容性：UHV，可烘烤；接触真空部件低放气率。 2.离子能量：连续可调，50 eV～5 keV，适合温和清洗至深度刻蚀。 3.离子束流：nA～几十 μA 连续可调，束流稳定，长时间漂移小。 4.工作气体：高纯氩气；兼容其他惰性气体，对接前述气路系统。 5.工作气压：典型工作区间 10e-6-10e-5mbar，对主腔体冲击小。 6.配套电源：独立灯丝电源、高压加速电源、聚焦电源；具备过流、高压保护、软启动。 7.监测功能：束流实时采集显示，可记录溅射工艺时序。 8.材料与磁场：无磁设计，减少对样品磁有序与 STM 信号干扰。 9.安装接口：标准 CF 超高真空法兰，与现有腔体预留接口匹配。 10.工艺适配：配合样品 manipulator，支持倾斜、旋转溅射，实现均匀表面处理。 11.配套清单：离子枪主体、高压控制单元、聚焦/偏转驱动、真空馈入、连接线束、安装支架、工艺手册。 | ||||
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